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专供大学研究所、高粘附力、耐湿法蚀刻正胶AZ 1500

发布日期:2024/11/26 16:48:13

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专供大学研究所、高粘附力、耐湿法蚀刻正胶AZ 1500
专供大学研究所、高粘附力、耐湿法蚀刻正胶AZ 1500(MEMS麦克风、镍铜等金属蚀刻)
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :13玖23八66554  扣扣:35捌9123零
产品开发经验,铝(Al)开槽穿孔膜片和背板电极,在硅片上采用光刻胶AZ1500牺牲层制备了一种新型传声器。通过在铝制膜片上增加一些凹槽来减小残余应力和膜片刚度的影响,从而提高传声器的灵敏度。在膜片上制作声孔,减少了空气阻尼,避免了制作后腔和后板孔的非标准硅加工更复杂和昂贵的缺点。光刻胶牺牲层易于用旋涂机沉积,也易于用丙酮释放。此外,与氧化硅和铝相比,丙酮具有较高的电阻选择性,因此它完全消除了牺牲电阻,而不会对氧化硅和铝造成明显的损伤。测量的零偏置电容为17.5 pF,其拉入电压为25 V。用外置放大器和扬声器对麦克风进行了测试,外置放大器能够检测到扬声器和示波器上麦克风发出的声波。放大器输出语音信号的最大幅值为45 mV, MEMS麦克风的最大输出为1.125 μ V。