大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG602
发布日期:2024/11/26 16:48:12
浏览次数:
点赞数:
收藏数:
关注数:
【赞一个】 【举报】 【收藏】 【关注】
大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG602
大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG601、AZ GXG602
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :13玖23八66554 扣扣:35捌9123零
AZ GXR601,AZGXR602广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻,如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。