深圳市芯泰科光电有限公司
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  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶AZ P4400

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 超厚膜、高分辨率、高纵宽比、I线正胶AZ 10XT

    超厚膜高分辨率高纵宽比线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传感基于粗糙玻璃的热

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 专供大学研究所、超厚膜、I线正胶AZ 10XT

    专供大学研究所超厚膜线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传感基于粗糙玻璃的热电

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 应用于高精度电镀工艺的正胶AZ PLP-30

    应用于高精度电镀工艺的正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 应用于高精度电镀工艺、超厚膜正胶AZ PLP-30

    应用于高精度电镀工艺超厚膜正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性正型光刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 适用于bumping、CSP重布线正胶AZ PLP-30

    适用于重布线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性正型光刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 专供大学研究所、耐超厚膜,高分辨率电镀正胶AZ PLP-30

    专供大学研究所耐超厚膜,高分辨率电镀正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性正型光刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 应用于超高分辨率图形AZ AQUATAR系列

    应用于超高分辨率图形系列深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层,在超高分辨率下,有必要使用系列改善光刻胶线宽,并降低薄膜干涉造成的驻波效应适用于各种高解像度线光刻胶提高了光刻胶表面的亲水性,有效地减少了显影引起的缺陷水溶性溶液,因此适于加入现有的工

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 专供大学研究所、顶部防反射涂层AZ AQUATAR系列

    专供大学研究所顶部防反射涂层系列深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层,在超高分辨率下,有必要使用系列改善光刻胶线宽,并降低薄膜干涉造成的驻波效应适用于各种高解像度线光刻胶提高了光刻胶表面的亲水性,有效地减少了显影引起的缺陷水溶性溶液,因此适于加入

    发布日期:2024/11/26 16:48:13

  • 专供大学研究所、提高光刻胶解析Non PFOA顶部防反射涂层

    专供大学研究所提高光刻胶解析顶部防反射涂层深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零系列不含和可溶于水,使用方法与现有的材料相同适用于各种高分辨率线光刻胶提高了光刻胶表面的亲水性,有效地减少了显影引起的缺陷水溶性溶液,因此适于加入现有的工艺中

    发布日期:2024/11/26 16:48:13