- 光电研究所超厚膜高感光度G线标准正胶AZ P4620
系列光刻胶许总零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，适用于半导体制造及磁头制造特征高对比度，高感光度高附着性，对电镀工艺高耐受性多种粘度可供选择参考工艺条件许总零前烘秒以上曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化产
发布日期：2026/6/4 10:10:22 - 大学论文超厚膜高感光度G线标准正胶AZ P4400
系列光刻胶许总零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，适用于半导体制造及磁头制造特征高对比度，高感光度高附着性，对电镀工艺高耐受性多种粘度可供选择参考工艺条件许总零前烘秒以上曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化产
发布日期：2026/6/4 10:10:20 - 光电研究所超厚膜高感光度G线标准正胶AZ P4903
系列光刻胶许总零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，适用于半导体制造及磁头制造特征高对比度，高感光度高附着性，对电镀工艺高耐受性多种粘度可供选择参考工艺条件许总零前烘秒以上曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水后烘秒以上剥离剥离液及或氧等离子体灰化产
发布日期：2026/6/4 10:10:17 - 研究所耐高温蒸镀负胶AZ 5218E
系列光刻胶许总零应用于工艺图形反转正负可转换型光刻胶高解像度图形反转正负可改变型光刻胶，特别为工艺优化,特征适用于高分辨率工艺工艺适用于正负图形许总零很宽的膜厚范围参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机反转烘烤秒去离子水秒全面曝光在曝光光源下全面照射显影秒秒秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液
发布日期：2026/6/4 10:10:16 - 研究所专用底部防反射涂层AZ BARLi-II
底部防反射涂层材料,,系列许总零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率，从而提高光刻胶线宽控制方面，的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺，另外，它也适用于的工艺,,特征对线等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性中性成分组成以及高温交联剂的使用使
发布日期：2026/6/4 10:10:15 - 大学耐高温蒸镀负胶AZ 5214E
系列光刻胶许总零应用于工艺图形反转正负可转换型光刻胶高解像度图形反转正负可改变型光刻胶，特别为工艺优化,特征适用于高分辨率工艺工艺适用于正负图形许总零很宽的膜厚范围参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机反转烘烤秒去离子水秒全面曝光在曝光光源下全面照射显影秒秒秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液
发布日期：2026/6/4 10:10:15 - 大学专用底部防反射涂层KrF-BARC
底部防反射涂层材料,,系列许总零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率，从而提高光刻胶线宽控制方面，的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺，另外，它也适用于的工艺,,特征对线等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性中性成分组成以及高温交联剂的使用使
发布日期：2026/6/4 10:10:14 - 光电研究所用底部防反射涂层ArF-BARC
底部防反射涂层材料,,系列许总零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率，从而提高光刻胶线宽控制方面，的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺，另外，它也适用于的工艺,,特征对线等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性中性成分组成以及高温交联剂的使用使
发布日期：2026/6/4 10:10:10 - 研究所专用高感光度高热稳定性正胶AZ 6130
系列光刻胶许总零高感光度高热稳定性线正型光刻胶广泛应用于大规模集成电路的高感光度高热稳定性线正型光刻胶特征通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口高感光度带来了高产出率很宽的膜厚范围许总零参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等离子体
发布日期：2026/6/4 10:10:09 - 大学专用底部防反射涂层KrF-BARC
底部防反射涂层材料,,系列许总零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率，从而提高光刻胶线宽控制方面，的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺，另外，它也适用于的工艺,,特征对线等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性中性成分组成以及高温交联剂的使用使
发布日期：2026/6/4 10:10:08