- 高粘附力、耐高温、干湿蚀刻、电镀专用和厚膜正胶
高粘附力耐高温干湿蚀刻电镀专用和厚膜正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零深圳市芯泰科光电有限公司，创立于年，是一家服务于微电子领域的产品贸易及技术服务提供商。我们已经成为国内微电子制程领域和相关大学研究所信赖的合作伙伴公司秉持以忠诚态度对待新旧客户，以客户满意为导向，提供优质高效率
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - MEMS麦克风、镍铜等金属蚀刻用正胶AZ 1500
麦克风镍铜等金属蚀刻用正胶专供大学研究所高粘附力耐湿法蚀刻正胶麦克风镍铜等金属蚀刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产品开发经验，铝开槽穿孔膜片和背板电极，在硅片上采用光刻胶牺牲层制备了一种新型传声器。通过在铝制膜片上增加一些凹槽来减小残余应力和膜片刚度的影响，从而提高传声器的灵敏度
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 专供光电研究所、耐HF、氢氟酸强酸蚀刻正胶AZ6124
专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零推荐一款有效保护结构材料多晶硅多晶硅免受电化学腐蚀的新方法，这种腐蚀通常发生在器件在基溶液中释放时，特别是当器件含有贵金属时。这种腐蚀严重降低了器件的电气和机械性能以及可靠性。在该方
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 专供光电研究所、耐HF、氢氟酸、强酸蚀刻正胶AZ6123
专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零推荐一款有效保护结构材料多晶硅多晶硅免受电化学腐蚀的新方法，这种腐蚀通常发生在器件在基溶液中释放时，特别是当器件含有贵金属时。这种腐蚀严重降低了器件的电气和机械性能以及可靠性。在该方
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG602
大学研究所专用耐干法刻蚀高选择比正胶大学研究所专用耐干法刻蚀高选择比正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零,广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻，如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 研究所专用、正负反转胶、耐干刻正胶AZ5214E
研究所专用正负反转胶耐干刻正胶研究所专用正负反转胶耐干刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用应用于微流控芯片传感器，纳米机械热解碳谐振器等研发制作
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 研究所专用、正负反转胶、耐干刻正胶AZ5218E
研究所专用正负反转胶耐干刻正胶研究所专用正负反转胶耐干刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用应用于微流控芯片传感器，纳米机械热解碳谐振器等研发制作
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 研究所专用、正负反转胶、耐干刻正胶AZ5200NJ
研究所专用正负反转胶耐干刻正胶研究所专用正负反转胶耐干刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用应用于微流控芯片传感器，纳米机械热解碳谐振器等研发制作
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - 大学研究所、文专用正胶 AZ MIR-703
大学研究所文专用正胶大学研究所和生产应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用适用于合和生产应用，也适用于开发化学纳米传感器，可穿戴微加速度计传感器和石墨烯场效应晶体管的器件等研发
发布日期：2024/11/26 16:48:12 - ULSI、VLSI生产应用正胶AZMIR-701
生产应用正胶大学研究所和生产应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用适用于合和生产应用，也适用于开发化学纳米传感器，可穿戴微加速度计传感器和石墨烯场效应晶体管的器件等研发
发布日期：2024/11/26 16:48:12