深圳市芯泰科光电有限公司
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  • ULSI、VLSI生产应用正胶AZ MIR-703

    生产应用正胶大学研究所和生产应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用适用于合和生产应用,也适用于开发化学纳米传感器,可穿戴微加速度计传感器和石墨烯场效应晶体管的器件等研发

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 大学研究所、超高剂量、离子注入应用正胶AZ MIR-950

    大学研究所超高剂量离子注入应用正胶大学研究所超高剂量离子注入应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零厚膜,高分辨率高感光度线正型光刻胶,适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 大学研究所、超高剂量、离子注入应用正胶AZ MIR-950

    大学研究所超高剂量离子注入应用正胶大学研究所超高剂量离子注入应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零厚膜,高分辨率高感光度线正型光刻胶,适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 应用于沟槽、通孔图形、KrF正胶AZ DX5200P

    应用于沟槽通孔图形正胶应用于沟槽通孔图形正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶 AZ P4330

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶AZ P3300

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 适用于微电镀工艺AZ 10XT

    适用于微电镀工艺深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传感基于粗糙玻璃的热电传感器生物

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 专供大学研究所、高分辨率、高纵宽比、I线正胶AZ 10XT

    专供大学研究所高分辨率高纵宽比线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传感基于粗糙

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 超厚膜正胶AZ PLP-30

    超厚膜正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性

    发布日期:2024/11/26 16:48:12

  • 应用于高精度电镀工艺、超厚膜正胶 AZ PLP-40

    应用于高精度电镀工艺超厚膜正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高耐受性正型光高分辨率,高垂直性,在电镀工艺中不产生膨胀与裂缝,高附着性正型光刻深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零适用于和重布线的超厚膜,高分辨率,对电镀工艺高

    发布日期:2024/11/26 16:48:12