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高精度正胶它是难附着表面薄层高精度反射衬底低温简单制程的正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力薄层正性光刻胶，可实现薄膜图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低热导基板科
发布日期：2026/9/3 1:46:41 - 吉林省白城市镇赉县封装应用新产品开发2026年专业推荐
高附着力正胶它是难附着表面超薄层高精度反射衬底低温简单制程的正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力超薄正性光刻胶，可实现超薄层图形化，具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶工艺简单兼容性强，广泛应用于难附着表面高反射衬底微细图形加工玻璃低热导
发布日期：2026/9/3 1:42:35 - 宁夏回族自治区固原市西吉县5G芯片材料销售热线
耐蚀刻负胶它是厚膜刻蚀掩模厚金属电镀高温高深宽比结构的专用光刻胶。是适用于紫外曝光的厚膜负性光刻胶，可实现厚膜图形化，显影后具有垂直侧壁形貌，具备高分辨率耐高温优异抗干法刻蚀性无需增粘剂等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶涂覆均匀附着力强显影快速，广泛应用于厚膜干法刻蚀厚金属电镀功率器件传感器光电器
发布日期：2026/9/3 1:37:49 - 河北省邢台市沙河市产品年度最佳供应商
金属剥离负胶它是高温制程中厚膜金属剥离的专用型号。是适用于紫外曝光的中厚膜负性光刻胶，专为金属剥离工艺设计，显影后可形成负倾斜侧壁，且底切程度可通过曝光剂量灵活调节，具备耐高温优异膜厚均匀性无需增粘剂高分辨率快显影等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶广泛应用于功率器件传感器光电器件高温与高精度剥离制
发布日期：2026/9/3 1:33:33 - 陕西省汉中市南郑县课题开发2026特别推产品
电镀负胶它是中厚膜高精度刻蚀掩模高温制程中厚金属电镀的专用型号。是适用于紫外曝光的中厚膜负性光刻胶，可实现中厚膜图形化，显影后具有垂直侧壁形貌，具备高分辨率耐高温优异抗干法刻蚀性无需增粘剂等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶涂覆均匀附着力强显影快速，广泛应用于中厚膜干法刻蚀中厚金属电镀功率器件传感器
发布日期：2026/9/3 1:28:46 - 内蒙古自治区巴彦淖尔市乌拉特后旗课题开发热线
出售各种化学药水年品牌推荐退镀液脱墨剂蚀刻液切削液清洗剂除蜡除油不伤基材退镀离子源鉬筛网退镀石英观察窗退镀膜层退镀铌酸锂退镀钽酸锂退镀镀层退镀液钛黑退镀液铬黑退镀液陶瓷退镀液锗片退镀液蓝宝石退镀液红外镜片镀膜液锗硫镀膜液棱镜胶合分离液胶脱除剂钼铝钼蚀刻液钛蚀刻液高阻膜脱膜液各种蚀刻液蚀刻液铜蚀刻液非
发布日期：2026/9/3 1:24:36 - 辽宁省葫芦岛市兴城市传感器芯片材料答辨用年度最佳供应商
高精度负胶它是高精度薄层图形高温制程干法刻蚀超细电极掩模的理想型号。是适用于紫外曝光的超高分辨率薄层负性光刻胶，可实现薄膜图形化，具备超高分辨率耐高温优异抗干法刻蚀性无需增粘剂等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶涂覆均匀附着力强显影快速，广泛应用于超精细半导体器件功率器件传感器光电器件高温与干法刻蚀
发布日期：2026/9/3 1:19:52 - 新疆克拉玛依市克拉玛依区开发用热线
高精度负胶它是超精细图形高温制程干法刻蚀超薄掩模的专用光刻胶。是适用于紫外曝光的超高分辨率超薄层负性光刻胶，可实现超薄膜图形化，具备超高分辨率耐高温优异抗干法刻蚀性无需增粘剂等特点，室温下保质期长达年。该光刻胶可通过高温固化成为器件永久结构，广泛应用于超精细半导体器件功率器件传感器光电器件高温与干法
发布日期：2026/9/3 1:15:38 - 湖北省黄冈市罗田县CIS芯片材料销售2026特别推产品
超厚负胶是超厚金属电镀高深宽比结构大功率器件的专用光刻胶。是适用于紫外曝光的超厚膜负性光刻胶，可实现超厚膜图形化，具备高分辨率快显影电镀环境下附着力优异易去除等特点，能够满足高深宽比结构加工需求。该光刻胶广泛应用于超厚金属电镀微结构大功率器件射频器件微流控芯片玻璃陶瓷基底加工等领域，尤其适合需要超厚
发布日期：2026/9/3 1:12:00 - 海南省东方市AI芯片材料新产品开发2026年专业推荐
负胶是低能量曝光专用金属剥离的型号。是适用于宽谱紫外曝光的中薄层负性光刻胶，专为金属剥离工艺设计，显影后可形成负倾斜侧壁，且底切程度可通过曝光剂量灵活调节，具备超高感光度高分辨率快显影耐高温室温去胶等特点。该光刻胶在弱光与低能量曝光环境下仍能稳定成像，广泛应用于功率器件传感器光电器件玻璃陶瓷基底加工
发布日期：2026/9/3 1:07:27