
纯钛氧化物旋涂玻璃纯钛氧化物旋涂玻璃是超高介电常数超高折射率的低温旋涂材料,主要用于半导体高密度电容光电器件光学匹配紫外防护晶圆标记及高端器件绝缘平坦化。核心应用场景半导体超高密度电容器介质层核心用途许总射频电容模拟混合信号电容介电常数,大幅提升电容密度减小芯片面积高绝缘强度,适合高压高可靠电容光通
发布日期:2026/6/11 9:59:40
钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高介电常数高折射率低温旋涂材料,主要用于半导体高密度电容介质光电器件光学匹配晶圆白色标记紫外防护及层间绝缘。核心应用场景半导体高密度电容器介质层核心用途许总电容电容层间电容射频电容高介电常数,大幅提升电容密度降低面积光学器件匹配与波导包覆高折射率用于光输入输出耦合光波导
发布日期:2026/6/11 9:55:16
钛掺杂旋涂玻璃钛掺杂旋涂玻璃是高折射率高介电常数的低温旋涂绝缘材料,主要用于半导体电容器介质光通信器件光学匹配晶圆键合紫外吸收保护及器件平坦化与绝缘。核心应用场景半导体电容器介质层主要用途许总用于电容电容层间耦合电容高介电常数高绝缘强度,提升电容密度与耐压光学薄膜与光通信器件高折射率匹配光器件输入输
发布日期:2026/6/11 9:50:49
出售各种化学药水年品牌推荐退镀液脱墨剂蚀刻液切削液清洗剂除蜡除油不伤基材退镀离子源鉬筛网退镀石英观察窗退镀膜层退镀铌酸锂退镀钽酸锂退镀镀层退镀液钛黑退镀液铬黑退镀液陶瓷退镀液锗片退镀液蓝宝石退镀液红外镜片镀膜液锗硫镀膜液棱镜胶合分离液胶脱除剂钼铝钼蚀刻液钛蚀刻液高阻膜脱膜液各种蚀刻液蚀刻液铜蚀刻液非
发布日期:2026/6/11 9:46:59
超厚正胶它是难附着表面超厚膜光刻高深宽比刻蚀大结构图形低热基板的专用正胶。是适用于紫外曝光的超高附着力超厚膜正性光刻胶,可实现超厚膜图形化,具备优异基材附着力无需增粘剂高分辨率良好线宽控制反射缺口后易去除等特点,室温下保质期长达年。该光刻胶支持边缘珠去除工艺,超厚膜均匀性与结构稳定性优异,广泛应用于
发布日期:2026/6/11 9:42:15
硼掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源一产品基本信息产品全称产品类型硼掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源生产厂商,二核心成分与关键参数表格项目关键信息目标元素硼原子浓度薄膜核心元素硼粘度旋涂成膜厚度固化温度区间起始,及以上致密保质期个月个月纯度等级低级别三产品优势实现轻浓度硼掺杂工艺简化,仅需一根推入管维护与使用成本更低
发布日期:2026/6/11 9:40:57
硼掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源一产品基本信息产品全称产品类型硼掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源生产厂商,二核心成分与关键参数表格项目关键数值目标元素硼原子浓度薄膜核心元素硼粘度折射率旋涂厚度固化起始温度强化温度及以上保质期个月个月三产品优势实现轻浓度硼掺杂工艺简化,仅需一根推入管维护与使用成本更低采用高纯度材料
发布日期:2026/6/11 9:36:19
钕掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源是推出的高浓度钕掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源,核心含,钕原子浓度为,旋涂可形成厚薄膜,保质期个月个月,起始固化以上强化,纯度可达或,具备成膜均匀高纯度熔点更低工艺稳定等优势,主要用于半导体掺杂,掺杂后玻璃层可去除。一产品基本信息产品全称产品类型钕掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源生产厂商
发布日期:2026/6/11 9:32:22
镁掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源是公司推出的镁掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源,核心含,镁原子浓度为,旋涂可形成厚薄膜,保质期个月个月,纯度可达或,可实现的终镁掺杂浓度,用于半导体掺杂,能消除浓度梯度并镁元素流失,具备成膜均匀高纯度等优势。一产品基本信息产品全称产品类型镁掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态源生产厂商,二核心成
发布日期:2026/6/11 9:28:36
铝掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态材料是推出的高浓度铝掺杂硅酸盐旋涂玻璃,核心含,铝原子浓度达,旋涂可形成厚薄膜,保质期个月个月,起始固化以上致密强化,纯度可达或,具备高浓度铝掺杂成膜均匀高纯度工艺稳定等优势,主要用于半导体铝掺杂工艺,掺杂后玻璃层可去除。一产品基本信息产品全称产品类型铝掺杂硅酸盐旋涂玻璃液态
发布日期:2026/6/11 9:23:54