大学研究所专用耐干法刻蚀高选择比正胶大学研究所专用耐干法刻蚀高选择比正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零,广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻，如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。

发布日期：2024/11/26 16:48:13

研究所专用正负反转胶耐干刻正胶研究所专用正负反转胶耐干刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用应用于微流控芯片传感器，纳米机械热解碳谐振器等研发制作

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大学研究所文专用正胶大学研究所和生产应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用适用于合和生产应用，也适用于开发化学纳米传感器，可穿戴微加速度计传感器和石墨烯场效应晶体管的器件等研发

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大学研究所超高剂量离子注入应用正胶大学研究所超高剂量离子注入应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零厚膜，高分辨率高感光度线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺

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通孔图形高分辨率正胶应用于通孔图形高分辨率的正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶，为通孔图形优化,工艺窗口大,适用于相移光罩,适用于密集线图形

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光机电所用通孔图形高分辨率正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶，为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

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应用于沟槽通孔图形正胶应用于沟槽通孔图形正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶，为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

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大学研究所超厚膜，高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，适用于半导体制造及磁头制造,高对比度，高感光度,高附着性，对电镀工艺高耐受性应用于使用晶圆键合机的晶圆级芯片级封装超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶

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大学研究所超厚膜，高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，适用于半导体制造及磁头制造,高对比度，高感光度,高附着性，对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

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